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📰 光刻工艺的核心技术之一 掩膜版行业有望迎技术升级机遇

掩膜版是微电子制造中不可或缺的关键材料，广泛应用于平板显示、半导体和电路板等行业。随着AI和自动驾驶等新兴领域的快速发展，掩膜版行业面临技术升级的良好机遇。半导体掩膜版与光刻机的高度协同，使其成为芯片制造的核心要素，掩膜版的质量直接影响最终产品的优品率。

根据市场预测，到2025年，国内半导体掩膜版市场规模将达到约187亿人民币，其中晶圆制造用掩膜版占据100亿元，封装用和其他器件用掩膜版分别为26亿元和61亿元。目前，国内厂商在掩膜版领域的营收相对较低，但技术持续升级和高端产能的释放将推动行业发展。相关上市公司如清溢光电和路维光电正在加快投资和扩产，以满足日益增长的市场需求。

清溢光电在180nm和150nm工艺节点的掩膜版量产上取得了显著进展，而路维光电则在二季度实现了生产接近满载。随着技术的不断进步和市场需求的增加，掩膜版行业有望迎来更大的发展空间，成为微电子制造的重要支柱。

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