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📰 打破ASML垄断！神秘公司宣布光刻新技术：号称可媲美EUV光刻机

美国初创企业Substrate宣布研发出基于X光的新型曝光技术，其解析度可与ASML的EUV光刻机相媲美。Substrate计划在美国建立晶圆代工厂，直指台积电在AI芯片代工领域的主导地位。该技术已在300mm晶圆上实现12纳米特征尺寸，未来有望扩展至2纳米工艺，且有潜力将芯片制造成本降低一个数量级。

尽管Substrate的技术宣称引发关注，但媒体指出其真实性尚待验证。Substrate已获得1亿美元融资，估值超过10亿美元，团队成员来自台积电、IBM等知名企业，具备强大的技术背景。公司计划在2028年启动晶圆厂建设，初期投资将控制在“数十亿美元”。

目前，ASML的EUV光刻机在先进制程芯片制造中占据垄断地位，Substrate的技术若能成功落地，可能会改变行业格局。然而，业内人士对X光技术的可行性表示质疑，指出其面临良率和设备稳定性等多重挑战，且尚未通过主流晶圆厂验证，未来发展仍需观察。

🏷️ #半导体 #X光技术 #晶圆代工 #台积电 #ASML

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📰 EUV的真正老大

在全球半导体产业竞争中，ASML的极紫外光（EUV）微影机是技术高峰，其核心组件由德国蔡司独家供应。蔡司不仅在光学领域占据重要地位，其技术优势也成为美国遏制中国半导体发展的关键因素。蔡司的高精度镜组广泛应用于芯片制造中，确保了微影设备的领先地位，目前全球约八成芯片使用了该公司的光学元件。

蔡司与ASML的合作历史悠久，从浸润式深紫外光微影机时代起，两家公司便共同主导市场。蔡司的镜组制造精度达到令人惊叹的水平，独特的技术和专利形成了高门槛，其他公司几乎无望超越。蔡司不仅拥有众多技术专利，还通过高洁净工厂确保制造品质，其清洁室极大限度地减少了灰尘，提高了设备的操作精确度。

面临国际地缘政治挑战，中国及其他地区愈发重视自主研发与国产化。虽然台湾在光学元件领域有一定基础，但要实现微影机核心镜组的制造精度仍面临挑战。一些台湾光学厂商在相关产业中不断努力追赶，尽管困境显著，但结合全球合作与自主技术提升，未来的科技竞争仍可望保持优势。

🏷️ #半导体 #光学元件 #蔡司 #EUV #ASML

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📰 2025年中国光刻机行业销量统计、产品销量结构及重点企业营收

光刻机市场在2018至2022年间经历了显著增长，三大主要供应商ASML、Nikon和Canon的营收合计从123亿美元增至198亿美元，年均增长率达到13%。预计到2023年，全球光刻机市场规模将达到252亿美元，销量也将持续上升，2022年全球销量已达510台，预计2023年将增至564台。中低端光刻机仍占主导地位，尤其是KrF和i-Line产品。

ASML在光刻机市场中占据绝对领导地位，2022年市场份额达到82.14%，而Nikon和Canon分别为10.2%和7.65%。在超高端EUV光刻机领域，ASML更是独占鳌头，单台售价超过1亿美元。尽管Nikon和Canon在其他领域有所布局，但ASML的技术优势和市场占有率使其形成了明显的垄断格局。

华经产业研究院通过多种研究方法对光刻机行业进行了全面分析，涵盖市场容量、产业链、经营特性等多个方面，并编制了《2025-2031年中国光刻机行业市场深度分析及投资战略咨询报告》。该报告为企业和投资机构提供了重要的决策参考，助力光刻机行业的持续发展与技术创新。

🏷️ #光刻机 #市场份额 #ASML #技术创新 #行业分析

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