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📰 “关键里程碑”，阿斯麦：新一代EUV光刻机已准备好量产芯片

路透社报道，全球唯一的商用极紫外（EUV）光刻机制造商阿斯麦（ASML）宣布新一代高数值孔径EUV（High-NA EUV）设备已准备就绪，预计可在大规模生产中提升芯片性能与能效，支持台积电、英特尔等厂商的AI芯片路线图。新设备采用0.55数值孔径光学、实现8纳米分辨率，理论可支撑3纳米及以下制程并为1纳米节点留出技术储备。尽管设备具备量产条件，厂商仍需两到三年进行充分测试与整合进生产线。当前设备的正常运行率约80%，目标年底提升至90%；停机时间显著减少，累计处理过约50万片晶圆。2025年第四季度订单创纪录，超过半数来自EUV设备，全球需求旺盛。中国仍是阿斯麦重要市场，2025年销售额约占33%，但受美国出口限制，2026年中国份额或降至20%。为保障供应链，中国企业正自主研发DUV与EUV光刻机。本文为独家稿件，未经授权不得转载。

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📰 芯片制造重大突破？阿斯麦下一代EUV已能用于大规模量产，造价翻倍！

全球光刻机龙头ASML宣布其下一代芯片制造设备已准备就绪，面向大规模量产。新设备将助力台积电、英特尔等厂商生产更强大、效率更高的芯片，进一步缩短制造成本高、步骤复杂的问题。该设备定位为高数值孔径EUV（High-NA EUV），在提高成像精度和生产效率方面具有关键作用，但造价约4亿美元，是现有EUV设备的两倍。公司表示新工具的停机时间显著缩短，迄今已生产50万片晶圆，具备绘制更精准电路图案的能力，且目前运行率约80%，计划年底提升至90%。尽管技术已趋于成熟，企业仍需两三年时间进行充分测试与整合，以实现量产落地。Pieters表示，客户对这些新工具的测试和学习周期仍在持续，因此市场普及需要阶段性推进，但新一代设备已准备好进入生产制造阶段，并可能推动OpenAI等AI芯片相关需求的扩张。总体来看，这标志着ASIC制造工艺向高NA方向迈出关键一步，未来在AI芯片领域的应用潜力巨大。不同厂商需权衡成本与收益，评估何时在量产线上全面替代旧工艺。

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📰 阿斯麦股价上涨受行业需求改善及中国市场销售韧性推动 - 经济观察网 － 专业财经新闻网站

据经济观察网报道，阿斯麦（ASML）在2026年2月18日的股价上涨背后，受多重因素提振。首先行业政策与环境推动芯片设备销售预期上升，全球多家设备供应商预计2026年第一季度收入实现两位数增长，ASML在1月至3月的季度收入预计同比增约10%，受人工智能计算需求旺盛、DRAM及逻辑芯片制造工具订单增加所驱动。全球资本支出扩张也带动前端设备需求，台积电、SK海力士等头部厂商宣布扩大资本投入，直接推动光刻设备等工具需求。公司对华销售仍呈增长态势，尽管存在出口限制，最近季度对中国市场的设备销售额增长约60%，中国市场占总销售额的30%以上；分析师认为中国在光刻技术领域短期内依赖海外供应，支撑ASML短期收入。机构普遍认为ASML在极紫外(EUV)光刻设备领域具备垄断地位，是长期护城河。板块联动方面，2月18日美股半导体板块上涨，科技股情绪回暖带动ASML表现，成交额高达约19.49亿美元，量比1.07，显示资金参与度较高，股价突破前高并可能吸引短线资金。估值方面，ASML年初至今涨幅达37.43%，部分机构看好盈利增长与AI需求持续性，推动估值修复。展望未来，政策风险如美国出口管制和地缘政治摩擦可能影响对华销售节奏；若芯片制造商资本开支放缓或AI需求低于预期，设备订单增速或受拖累。以上信息基于公开资料整理，非投资建议。

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📰 EUV光刻机，正在被颠覆？

芯片制造行业正面临颠覆性变革，尤其是在光刻技术方面。当前的光刻机如EUV光刻机，尽管价格高昂，但其生产效率和成本效益使得制造商不愿意轻易改变现有的生产策略。然而，初创公司Substrate的X射线光刻技术（XRL）展示了降低晶圆生产成本的潜力，可能比现有技术降低50%。

Substrate的XRL技术克服了传统X射线光刻的挑战，能够实现2nm及更小节点的单次曝光，且具有与EUV相当的分辨率。这项技术的成功可能会打破现有市场格局，尤其是对于台积电等行业巨头而言，面临着市场份额被侵蚀的风险。Substrate希望在2028年前实现流片，挑战传统的研发和生产周期。

此外，Substrate不仅希望研发新技术，还计划建立自己的晶圆代工厂，这为美国本土化生产提供了新的选择。随着全球芯片制造的竞争加剧，Substrate的成功将引发行业的重大变革，可能会改变光刻机市场的格局。未来几年的发展值得密切关注。

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📰 EUV的真正老大

在全球半导体产业竞争中，ASML的极紫外光（EUV）微影机是技术高峰，其核心组件由德国蔡司独家供应。蔡司不仅在光学领域占据重要地位，其技术优势也成为美国遏制中国半导体发展的关键因素。蔡司的高精度镜组广泛应用于芯片制造中，确保了微影设备的领先地位，目前全球约八成芯片使用了该公司的光学元件。

蔡司与ASML的合作历史悠久，从浸润式深紫外光微影机时代起，两家公司便共同主导市场。蔡司的镜组制造精度达到令人惊叹的水平，独特的技术和专利形成了高门槛，其他公司几乎无望超越。蔡司不仅拥有众多技术专利，还通过高洁净工厂确保制造品质，其清洁室极大限度地减少了灰尘，提高了设备的操作精确度。

面临国际地缘政治挑战，中国及其他地区愈发重视自主研发与国产化。虽然台湾在光学元件领域有一定基础，但要实现微影机核心镜组的制造精度仍面临挑战。一些台湾光学厂商在相关产业中不断努力追赶，尽管困境显著，但结合全球合作与自主技术提升，未来的科技竞争仍可望保持优势。

🏷️ #半导体 #光学元件 #蔡司 #EUV #ASML

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