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📰 打破ASML垄断！神秘公司宣布光刻新技术：号称可媲美EUV光刻机

美国初创企业Substrate宣布研发出基于X光的新型曝光技术，其解析度可与ASML的EUV光刻机相媲美。Substrate计划在美国建立晶圆代工厂，直指台积电在AI芯片代工领域的主导地位。该技术已在300mm晶圆上实现12纳米特征尺寸，未来有望扩展至2纳米工艺，且有潜力将芯片制造成本降低一个数量级。

尽管Substrate的技术宣称引发关注，但媒体指出其真实性尚待验证。Substrate已获得1亿美元融资，估值超过10亿美元，团队成员来自台积电、IBM等知名企业，具备强大的技术背景。公司计划在2028年启动晶圆厂建设，初期投资将控制在“数十亿美元”。

目前，ASML的EUV光刻机在先进制程芯片制造中占据垄断地位，Substrate的技术若能成功落地，可能会改变行业格局。然而，业内人士对X光技术的可行性表示质疑，指出其面临良率和设备稳定性等多重挑战，且尚未通过主流晶圆厂验证，未来发展仍需观察。

🏷️ #半导体 #X光技术 #晶圆代工 #台积电 #ASML

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